CVD-Anlage

Lieferung einer CVD-Anlage (CVD: chemical vapor deposition = chemische Gasphasenabscheidung) zur Herstellung dünner Schichten aus Übergangsmetall-Dichalkogeniden und Gallium-Monochalkogeniden auf verschiedenen Substraten mit Substratgrößen bis zu 4 Zoll, inklusive Lieferung und inbetriebnahme.

Der Auftrag kann nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden, da aus technischen Gründen kein Wettbewerb vorhanden ist. Vorliegend wird eine CVD-Anlage für die Herstellung dünner Schichten für verschiedene Substrate mit Substratgrößen bis zu 4 Zoll benötigt. Die Anlage muss darüber hinaus Schichtdicken bis herab zu Monolagen (Dicke < 1 nm), sowie Heterostrukturen aus unterschiedlichen Materialien mit möglichst geringer Kreuzkontamination ermöglichen und aus zwei getrennten Wachstumskammern bestehen, die durch eine Transferkammer miteinander verbunden sind und über einen optischen Zugang zur Wachstumszone verfügen.