Fully automated in-line OCD and dimensional shape metrology system (IZM-133.3) - PR1320279-3460-P
Teilnahmefrist: noch 23 Tage
1x Waferbearbeitungs-Anlage mit zentralem Handlingsystem, 1 Kammer für Ionenstrahlätzen und 1 PVD -Kammer zur in-situ-Passievierung und Elektrodenabscheidung beschafft. Die Anlage soll 200 mm Wafer bearbeiten. Die Ionenstrahlätzkammer muss für die Strukturierung von magnetischen Multischichtstapeln (GMR, TMR) geeignet sein. Weiterhin muss diese Kammer mit einem Optischen Emissionsspektrometer (OES) ausgerüstet sein für die Endpunkterkennung. Die PVD-Kammer wird für Abscheidung von SiN-Passivierungsschichten auf den GMR/TME-Strukturen direkt nach der Strukturierung ohne Vakuumunterbrechung und zur Abscheidung von Elektrodensystemen aus Edelmetallen verwendet.
Optionale Merkmale:
- Ersatzsatz von Kammerinnenteilen (Abschirmungen / Shutter), die aufgrund von Beschichtung / Partikelgenerierung zu reinigen sind: Auflistung der benötigten Teile pro Prozesskammer; Angabe der Sätze pro Kammer als Einzelpositionen im Angebot
- weitere Substratmaterialien: wenn möglich auch Quartz
Ion Mill chamber with central handling system and 2 PVD chambers (ENAS-01.1)
Teilnahmefrist: noch 23 Tage
Angebotsfrist: noch 10 Tage
Angebotsfrist: noch 3 Tage
Teilnahmefrist: noch 137 Tage
Quelle Bekanntmachungsservice (oeffentlichevergabe.de) (CC0) · Bekanntmachung 4386f4e9-bdac-4e1f-bbfe-0b01a479e55c, Version 1 · bei uns aktualisiert · Stand